【自主研發 ㊙️】外媒報導，由於美國等西方國家嚴格限制深紫外光（DUV）及極紫外光（EUV）曝光機出口中國，中國半導體新創企業「青芯半導體」（Prinano）近日宣佈，已成功驗證利用「奈米壓印」（Nanoimprint Lithography, NIL）技術量產 8 吋矽基光子晶片（Photonic Chip）。該公司強調，此技術完全繞過了對荷蘭曝光機巨頭 ASML 生產設備的依賴，並能將晶片製造費用大幅削減至傳統 DUV 製程的十分之一左右。