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英特爾推遲2000億美元的新晶圓廠建設計劃,或需要更多時間考慮

英特爾CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)在今年三月份的活動中,分享了“IDM 2.0”願景,創建了英特爾代工服務(IFS),這是英特爾IDM模式的重大革新。為了加速實現IDM 2.0戰略,英特爾將大幅度擴大產能,此前已投資約200億美元,在美國亞利桑那州的Octillo園區 新建 兩座晶圓廠(Fab 52和Fab 62)。

對於英特爾龐大的產能擴充計劃來説,200億美元的投資只是其中的一小部分。事實上,英特爾原計劃的整體投資規模將超過2000億美元,包括在美國和歐洲地區建設新的晶圓廠,以及在世界各地升級相關設施,比如近期英特爾就投資70億美元在馬來西亞建造一間新的芯片封裝和測試工廠,以加強全球範圍內的半導體生產能力。

英特爾高達2000億美元的計劃原定於今年年末公佈具體方案,主要涉及美國和歐洲地區的大規模新建項目。不過據TomsHardware 報道 ,目前英特爾已經將時間推遲到2022年初,這可能牽涉到項目中遇到的複雜問題,需要考慮諸多因素的影響,比如這種大規模投資涉及到政府的補貼和税收優惠等政策。

此前英特爾曾 宣稱 ,會在美國興建一座半導體制造中心,新的製造基地會擁有6到8個半導體制造模塊,使用英特爾最先進的製造技術(4nm或3nm工藝)和芯片封裝(比如EMIB和Foveros封裝技術)設施,而且會有一座專用的發電廠。每個半導體制造模塊的成本會在100億至150億美元之間,帕特·基辛格表示將計劃投資1000億美元。

在更早之前,有媒體 報道 英特爾在歐洲會分兩個階段打造工廠羣,第一階段首先會投資大概200億美元建造兩座晶圓廠,然後再分階段建造六座晶圓廠,其廠區最終會有八座晶圓廠,成為價值1000億美元的半導體制造基地。