據外媒報導，中國的半導體企業已改為專注採用 DUV 曝光技術的生產技術發展，而主因是中國企業受制國際禁令，不能購入最先進的 EUV 光刻機。據「中國經濟日報」的消息指，因已確認 DUV 設備不受美國禁令影響，中國的半導體龍頭中芯國際已決定，將與光刻設備廠商 ASML 的合約延長至 2022 年，並增加 DUV 設備的進口。
EUV 光刻機主要可生產 10nm 或更先進製程，而 DUV 光刻機則用作生產現時的成熟製程所使用的，主要生產汽車電源管理晶片 (PMIC) 和微控制器 (MCU) 等成熟製程晶片。目前技術的提升下，晶圓廠已可使用 DUV 光刻機已可生產 10nm 製程的產品。台積電和 Samsung 也使用 DUV 光刻設備生產 10nm 相關節點製程。
至於 EUV 設備除了因受限難以進口中國外，還因中國半導體企業不能在 10nm 以下先進製程生產到更具利潤的產品，因此將目標改為 14nm 或更大製程的產品為主。據統計 (截至 2020 年底) 成熟製程產品就佔整個半導體市場銷售金額 73%。