台積電的7nm工藝投產已經有兩年多時間了，從2018年4月份正式投產以來，他們用7nm工藝已經制出了10億枚合格的芯片，是一個非常了不起的里程碑式的成就，昨天晚間，台積電官方特地 發文 慶祝了這一成就。

截至目前為止，台積電已經為十多家客户生產了超過100種7nm芯片，官方稱這些芯片的面積足夠覆蓋13個曼哈頓城市街區。

台積電稱7nm工藝是他們史上最快投入量產的工藝，在大量的生產實踐中，台積電7nm製程的良率一直在穩步提升。官方稱他們在生產的設備中部署了大量的傳感器以收集數據，並且還利用了人工智能和機器學習手段改善芯片製造過程。作為第一家量產7nm製程的晶圓代工廠，他們有足夠的時間提高質量和產能，所以我們現在看到的絕大多數7nm芯片都是台積電代工的。

在7nm時代，台積電引入了EUV光刻技術，並是首家將EUV光刻投入到商業化生產的公司。N7和N7P都用的是傳統的DUV技術，而N7+和未來的N6都引入了EUV光刻，台積電在文章中簡單介紹了他們的N6工藝，它使用與N7相兼容的設計規格，同時引入了EUV光刻技術，在密度上做到了20%的提升，並且已經投入量產，為客户提供了一個非常有性價比的工藝選項。

台積電的5nm工藝產品也將隨着新一代iPhone等手機的發佈和我們見面。