如果有關心半導體工藝方面的信息，相信對EUV（極紫外光）並不會感到陌生，如果要推進到7nm或更先進的工藝製程，可以説ASML（阿斯麥）的EUV設備是必不可少的工具。在過去幾年裏，EUV設備成為了眾多半導體製造商爭搶的對象，一直處於供不應求的狀態，為此ASML還提高了產量。

根據ASML去年 公佈 的計劃，2025年至2026年的年產能將提高到90台EUV（極紫外光）光刻系統和600台DUV（深紫外光）光刻系統，同時2027年至2028年High-NA EUV系統的產能也將提高到20台。

此前有 報道 稱，由於半導體行情反轉、存儲器產業陷入困境、以及政策限制等影響，近期台積電（TSMC）已減緩其產品擴張計劃，使得全球半導體設備材料供應鏈如坐鍼氈。據Digitimes 報道 ，前十大設備廠中，已有多家對2024年的業績展望趨於保守，目前已提前開始進行削減成本的計劃。

有些讓人意想不到的是，一直產能跟不上訂單節奏的ASML也開始受到了影響，其最大的客户台積電開始砍掉部分EUV設備的訂單，有傳言稱比例達到40%，並將出貨時間延後，這也讓ASML明年的營收承受了更大的壓力。預計2023年下半年起，全球半導體設備銷售所受到的影響會逐漸浮現，大概率會低於預期，客户減單效應將於2024年逐步顯現。

過去台積電、三星和英特爾等企業瘋狂爭搶EUV設備的熱度已經降温，為縮小先進製程差距而不斷燒錢的三星和英特爾估計也會跟進台積電的做法。從長遠來看，ASML依然獨佔EUV設備市場，最遲會在2026年半導體市況全面復甦後，再恢復增長。