在剛剛過去的IEDM 2019大會上面，ASML這家目前全球最大的EUV光刻機生產商給出了一個數據：從2018年1月份以來，EUV光刻系統生產的晶圓數量已經超過2011年至2017年的總和，達到250萬片，而從圖上可以看到，從2013開始總共已經生產了多達450萬張EUV晶圓。

圖片來自於 AnandTech ，下同

使用EUV光刻系統生產的晶圓數量從2018年開始猛增，其中的一大原因就是ASML的EUV光刻系統開始出貨，而在2019年我們看到台積電和三星這兩家的EUV生產工藝達到了成熟可用的地步，並且投入了正式的生產，比如麒麟990 5G使用的就是台積電的7nm EUV製程，而三星那邊則是有Exynos 9825，而明年則是會有更多的芯片選擇使用EUV工藝來製造，比如AMD的Zen 3、高通的5G芯片組等。而Intel那邊也是要在7nm節點引入EUV技術進行生產，所以未來使用EUV製程的晶圓數量只會越來越多。

根據目前的數據，截至2019年第二季度，ASML的NXE:3400B系統已經在全球的晶圓生產工廠中安裝了38套，而更新的NXE:3400C則是可以達到更高的產能，每小時最高可達170張晶圓。

未來ASML將推出接替NXE系列的EXE:5000系列光刻機，它將會幫助半導體生產商繼續攀爬工藝，計劃將於2023年推向市場，屆時台積電的3nm和Intel的5nm技術可能都將借力於新款的光刻機。