如果要推進到7nm以下的先進製程工藝，ASML（阿斯麥）的EUV（極紫外光）光刻機可以説是必不可少的製造工具。為此在過去幾年裏，與EUV相關的設備成為了眾多半導體製造商爭搶的對象，一直處於供不應求的狀態，為此ASML還提高了產量。如果要購買一台EUV光刻機，往往還需要提前數月預訂。

對於EUV光刻機的運用最為成熟的當屬台積電（TSMC），這也是其領先於其他競爭對手的關鍵，目前已推進到3nm製程節點，蘋果也在剛剛上市的iPhone 15 Pro系列機型上採用了3nm工藝製造的A17 Pro芯片，不過這並沒有帶動3nm需求上升。據Wccftech 報道 ，由於蘋果即將到來的新款iPad和MacBook Pro等產品的需求下降，加上高通因華為新機型導致3nm芯片訂單減少、三星3nm GAA和英特爾20A工藝需求不如預期，預計2024年市場對3nm產能的需求也會隨之下降。

此前就有 報道 稱，過去台積電、三星和英特爾等企業瘋狂爭搶EUV設備的熱度已經降温，為縮小先進製程差距而不斷燒錢的三星和英特爾估計也會跟進台積電的做法，砍掉部分EUV設備的訂單。同時有 消息 指出，台積電還要求包括ASML在內的主要芯片製造工具供應商推遲交付晶圓廠所需要的設備。

ASML的報告顯示，2023年計劃出貨60台EUV光刻機，實際上前六個月僅出貨22台。隨着2023年EUV光刻機的出貨量下降，ASML對應的營收增長幅度也由原先預計的40%下調至25%。對EUV光刻機需求減弱的趨勢也將延續到明年，分析稱2024年ASML的EUV光刻機出貨量將大幅度下跌20%至30%。