傳英特爾確定Battlemage製造工藝:採用台積電4nm製程

近期有關下一代Battlemage獨立顯卡的消息越來越多,此前英特爾已在官網 列出 了BMG-G31芯片的設計工具。同時Battlemage測試樣品的發貨清單也被 發現 ,傳聞新顯卡正在做主動散熱模塊的測試。

據DigiTimes 報道 ,英特爾已經為Battlemage選定了製造工藝,將採用(TSMC)的4nm製程,相比Alchemist的6nm,無論晶體管密度、性能還是能效上都有顯著提高,也讓新一代GPU可以配備更多的Xe核心,結合更高的IPC、頻率和其他特性,從而提供更強的性能。

除了用於獨立顯卡的Xe2-HPG架構,Battlemage還有用於集顯的Xe2-LPG架構,以簡化驅動程序的開發,降低成本並提高兼容性,其中Lunar Lake的核顯將首先採用Xe2-LPG架構。有趣的是,這些酷睿Ultra 200V系列處理器的GPU模塊採用了更為先進的台積電3nm製程,優於獨立顯卡。

據瞭解,BMG-G31應該是Battlemage裏最大的芯片,預計會有32個Xe核心,BMG-G21降至20個Xe核心,原計劃裏配備28個Xe核心的BMG-G10被取消,不過英特爾至今都沒有提及這些GPU芯片的規模和性能。不過此前曝光的發貨清單上出現了BMG-G10的身影,對應448個EU,採用了8層PCB,顯存位寬為256-bit,搭配的是16GB的GDDR6(X)顯存,這也讓Battlemage產品線如何配置成了一個謎。

最新消息稱,Battlemage的發佈時間可能從2024年末延後至2025年初。