【突破國際圍堵 ... 😱】外媒報導，俄羅斯國家科學院微結構物理研究所公佈了國產極紫外（EUV）光刻設備的發展長期路線圖。根據計劃，新專案將於 2026 年開展，初步目標是實現 40nm 製程，並在 2032 年達成 28nm 製程，最終在 2037 年實現 10nm 製程。